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套刻精度控制

指数 套刻精度控制

套刻精度控制 是一个用在半导体制造业中的术语。 硅晶圆到芯片的制作要经历一系列的阶段,每一个阶段将一个图样以及其所需的材料映射在晶圆上;图样就是线路或晶体管在晶圆上的排布。用这种方法将晶体管,导线等元件装配到晶圆上。 为了最终的设备能够正常工作,这些单独的图样必须正确对准--例如线路和晶体管等必须对齐。 套刻精度控制,定义了这种图样间的对准。 它一直在半导体制造业发挥着重要作用,对于多层级结构,帮助监测层与层之间的对准度。 任何形式的不对齐都可能会导致短路以及断路,从而影响工厂产量和良品率。 如今,随着图样密度越来越大,以及193nm浸没式光刻的发展导致的产率上的挑战,套刻精度控制已越来越重要。这些新技术的发展导致容错率越来越小。而现有的套刻精度控制方法已经不能满足精度要求。 套刻精度的控制方法必须同时满足较高的测量精度和处理稳健度。在45nm工艺中,为了得到更高的产率和质量,使用更小的新型靶材来实现。 广泛采用的套刻精度控制工具有:KLA-Tencor's ARCHER, 纳米CALIPER系列等。.

目录

  1. 1 关系: 半导体器件制造

  2. 半導體元件製程

半导体器件制造

半导体器件制造是被用于制造芯片,一种日常使用的电气和电子器件中集成电路的处理工艺。它是一系列照相和化学处理步骤,在其中电子电路逐渐形成在使用纯半导体材料制作的晶片上。 硅是今天最常用的半导体材料,其他还有各种复合半导体材料。 从一开始晶圓加工,到芯片封装測試,直到发货,通常需要6到8周,并且是在晶圓廠內完成。 国际半导体技术发展蓝图.

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另见

半導體元件製程