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物理气相沉积

物理气相沉积（Physical vapor deposition，PVD）是一種工業製造上的工藝，是主要利用物理过程来沉积薄膜的技术，即真空鍍膜（蒸鍍），多用在鈑金件、蝕刻件、擠壓件、金屬射出成型（MIM）、粉末射出成型（PIM）、機加件和焊接件等零件的工藝上。 和化学气相沉积相比，物理气相沉积适用范围广泛，几乎所有材料的薄膜都可以用物理气相沉积来制备，但是薄膜厚度的均匀性是物理气相沉积中的一个问题。 主要的物理气相沉积的方法有：.

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