横向扩散金属氧化物半导体和硅
快捷方式: 差异,相似,杰卡德相似系数,参考。
横向扩散金属氧化物半导体和硅之间的区别
横向扩散金属氧化物半导体 vs. 硅
横向扩散金属氧化物半导体(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor,缩写:LDMOS)经常被用于微波/射频电路,制造于高浓度掺杂硅基底的外延层上。 LDMOS常被用于制作基站的射频功率放大器,原因是它可以满足高输出功率、栅源击穿电压大于60伏的要求。与其他器件(如GaAs-zh-cn:场效应管; zh-tw:場效電晶體;-)相比,LDMOS功放极大值的频率相对较小。LDMOS技术的生产制造商包括台灣積體電路製造公司(TSMC)、格罗方德(GLOBALFOUNDRIES)、(VIS)、英飞凌、RFMD、飞思卡尔(Freescale)等。 Category:金属氧化物半导体. 硅(Silicon,台湾、香港及澳門称為--,舊訛稱為釸,中國大陸稱為--)是一种类金属元素,化学符号為Si,原子序數為14,属于元素周期表上的IVA族。 硅原子有4个外圍电子,与同族的碳相比,硅的化学性质相對稳定,活性較低。硅是极为常见的一种元素,然而它极少以單質的形式存在於自然界,而是以复杂的硅酸盐或二氧化硅等化合物形式广泛存在于岩石、砂砾、尘土之中。在宇宙储量排名中,矽位於第八名。在地壳中,它是第二丰富的元素,佔地壳总质量25.7%,仅次于第一位的氧(49.4%)。.
之间横向扩散金属氧化物半导体和硅相似
横向扩散金属氧化物半导体和硅有1共同点(的联盟百科): 硅。
硅(Silicon,台湾、香港及澳門称為--,舊訛稱為釸,中國大陸稱為--)是一种类金属元素,化学符号為Si,原子序數為14,属于元素周期表上的IVA族。 硅原子有4个外圍电子,与同族的碳相比,硅的化学性质相對稳定,活性較低。硅是极为常见的一种元素,然而它极少以單質的形式存在於自然界,而是以复杂的硅酸盐或二氧化硅等化合物形式广泛存在于岩石、砂砾、尘土之中。在宇宙储量排名中,矽位於第八名。在地壳中,它是第二丰富的元素,佔地壳总质量25.7%,仅次于第一位的氧(49.4%)。.
横向扩散金属氧化物半导体和硅 · 硅和硅 · 查看更多 »
上面的列表回答下列问题
- 什么横向扩散金属氧化物半导体和硅的共同点。
- 什么是横向扩散金属氧化物半导体和硅之间的相似性
横向扩散金属氧化物半导体和硅之间的比较
横向扩散金属氧化物半导体有10个关系,而硅有69个。由于它们的共同之处1,杰卡德指数为1.27% = 1 / (10 + 69)。
参考
本文介绍横向扩散金属氧化物半导体和硅之间的关系。要访问该信息提取每篇文章,请访问: