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對流和雷射加熱平台成長

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對流和雷射加熱平台成長之间的区别

對流 vs. 雷射加熱平台成長

對流是指流體內部的分子運動,是熱傳與質傳的主要模式之一。熱對流(亦稱爲對流傳熱)是三種主要熱傳方式中的其中一種(另外兩種分別是熱傳導與熱輻射). 雷射加熱平台成長(Laser-heated pedestal growth,縮寫簡稱LHPG)或雷射浮區法(laser floating zone,縮寫簡稱LFZ))是一種晶體成長技術。 該技術可以被視為一種精簡版的區域熔煉,只不過熱源改成了功率強大的二氧化碳雷射或者釔鋁柘榴石雷射。在現代眾多液體/固體相變化的晶體成長技術中,雷射加熱平台成長已成為材料科學研究中的重要技術。 雷射加熱平台成長技術具有兩大優勢,其一為高拉取速率(高達傳統柴氏拉晶法的60倍快),其二為可以生長熔點較高的材料。 除此之外,雷射加熱平台成長不需要用到坩堝,意味著該技術可以成長幾乎不受雜質及應力影響的單晶。.

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對流和雷射加熱平台成長之间的比较

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参考

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