EVD和化学气相沉积
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EVD和化学气相沉积之间的区别
EVD vs. 化学气相沉积
EVD可指:. 化學氣相沉積(chemical vapor deposition,簡稱CVD)是一種用來產生純度高、性能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將晶圓(基底)暴露在一種或多種不同的前趨物下,在基底表面發生化學反應或/及化學分解來產生欲沉積的薄膜。反應過程中通常也會伴隨地產生不同的副產品,但大多會隨著氣流被帶走,而不會留在反應腔(reaction chamber)中。 微制程大都使用CVD技术来沉积不同形式的材料,包括单晶、多晶、非晶及磊晶材料。这些材料有硅、碳纤维、碳奈米纤维、奈米线、奈米碳管、SiO2、硅锗、钨、硅碳、氮化硅、氮氧化硅及各种不同的等材料。CVD制程也常用来生成合成钻石。.
之间EVD和化学气相沉积相似
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EVD和化学气相沉积之间的比较
EVD有3个关系,而化学气相沉积有26个。由于它们的共同之处0,杰卡德指数为0.00% = 0 / (3 + 26)。
参考
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