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32纳米制程和光刻

快捷方式: 差异相似杰卡德相似系数参考

32纳米制程和光刻之间的区别

32纳米制程 vs. 光刻

32纳米制程是半导体制造制程的一个水平。自2010年开始,英特尔和AMD开始制造32纳米的芯片产品。 32纳米的后继制程是22纳米。. 光刻(photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。.

之间32纳米制程和光刻相似

32纳米制程和光刻有(在联盟百科)2共同点: 半导体器件制造纳米

半导体器件制造

半导体器件制造是被用于制造芯片,一种日常使用的电气和电子器件中集成电路的处理工艺。它是一系列照相和化学处理步骤,在其中电子电路逐渐形成在使用纯半导体材料制作的晶片上。 硅是今天最常用的半导体材料,其他还有各种复合半导体材料。 从一开始晶圓加工,到芯片封装測試,直到发货,通常需要6到8周,并且是在晶圓廠內完成。 国际半导体技术发展蓝图.

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纳米

纳米(符號 nm,nanometre、nanometer,字首 nano 在希臘文中的原意是「侏儒」的意思),是一个長度單位,指1米的十億分之一(10-9m)。 有時候也會見到埃米(符號 Å)這個單位,為10-10m。 1納米(nm).

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上面的列表回答下列问题

32纳米制程和光刻之间的比较

32纳米制程有6个关系,而光刻有14个。由于它们的共同之处2,杰卡德指数为10.00% = 2 / (6 + 14)。

参考

本文介绍32纳米制程和光刻之间的关系。要访问该信息提取每篇文章,请访问:

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