光刻和纳米

光刻和纳米之间的区别

光刻 vs. 纳米

光刻（photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。. 纳米（符號 nm，nanometre、nanometer，字首 nano 在希臘文中的原意是「侏儒」的意思），是一个長度單位，指1米的十億分之一（10-9m）。有時候也會見到埃米（符號 Å）這個單位，為10-10m。 1納米（nm）.

之间光刻和纳米相似

光刻和纳米有（在联盟百科）0共同点。

上面的列表回答下列问题

什么光刻和纳米的共同点。
什么是光刻和纳米之间的相似性

光刻和纳米之间的比较

光刻有14个关系，而纳米有8个。由于它们的共同之处0，杰卡德指数为0.00% = 0 / (14 + 8)。

参考

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